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半导体、电子洁净厂房设计施工要求


更新时间:2022.04.25   来源:无锡一净净化设备有限公司(一净净化)   浏览次数:

净化工程,无尘车间8.jpg

半导体特性决定其制造过程必须有洁净度要求,环境中杂质对半导体的特性有着改变或破坏其性能的作用,所以在半导体器件生产过程中对什么都必须严格控制,杂质各式各样,如金属离子会破坏半导体器件的导电性能,灰尘粒子破坏半导体器件的表面结构等。半导体、电子无尘洁净厂房有其特殊施工要求,下面无锡一净净化设备有限公司就其特点作些经验交流。

首先了解下半导体器件生产环境要求,其生产条件除了要求恒温恒湿外,对生产环境洁净度要求很严,按单位体积重规定的尘埃粒子数标准分成洁净度的等级。一般分为:10级、100级、1000级、10000级、100000级,国际标准IOS14644-1、国标GB50073-2013、美联邦标准中均有规定洁净室和洁净区内空气以大于或等于被考虑粒径的粒子最大浓度限值进行划分的等级标准。

电子产品性能、质量的提高和生产过程的微细化,日益要求生产环境具有一定的空气洁净度级别和控制净化车间内工艺生产所需的各类高纯物质的供给质量,目前国内外还没有统一电子产品的空气洁净度等级或生产环境控制要求的统一规定,各种电子产品的生产厂家依据其生产的产品品种、所采用的生产工艺技术、生产工艺设备、生产用原辅料以及净化车间运行的实践经验确定设计建造净化车间的空气洁净度级别等级(如下表格)。

净化车间的空气洁净度级别等级.jpg


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